Schneller Zugriff als Browser!Ähnlichkeiten zwischen High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid
High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid haben 7 Dinge gemeinsam (in Unionpedia): Aluminiumoxid, Amorphes Material, Chemische Gasphasenabscheidung, Dielektrikum, Halbleitertechnik, Integrierter Schaltkreis, Low-k-Dielektrikum.
Aluminiumoxid
Aluminiumoxid auf einer Uhrglasschale Aluminiumoxid ist die Sauerstoffverbindung des chemischen Elements Aluminium.
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Amorphes Material
Als amorphes Material („Gestalt, Form“ mit vorgesetztem Alpha privativum a-, Sinn also etwa „ohne Gestalt“) bezeichnet man in der Physik und der Chemie einen Stoff, bei dem die Atome keine geordneten Strukturen, sondern ein unregelmäßiges Muster bilden und lediglich über Nahordnung, nicht aber Fernordnung verfügen.
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Chemische Gasphasenabscheidung
Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren bzw.
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Dielektrikum
Als Dielektrikum (Mehrzahl: Dielektrika) wird eine elektrisch schwach- oder nichtleitende Substanz bezeichnet, in der die vorhandenen Ladungsträger nicht frei beweglich sind.
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Halbleitertechnik
Integrierter Schaltkreis (IC). Das Chip-Gehäuse wurde geöffnet und ermöglicht den Blick auf den eigentlichen Halbleiter. Die erkennbaren Strukturen im Zentrum sind die realisierte elektronische Schaltung. Im Außenbereich sind die goldenen Anschlussleitungen zu erkennen, die die elektrische Verdrahtung zwischen IC und Gehäusekontakten bilden. Die Halbleitertechnik (HLT) ist ein technischer Fachbereich, der sich mit Entwurf und Fertigung von Produkten auf der Basis von Halbleitermaterialien, vor allem mit denen für mikroelektronische Baugruppen, beispielsweise integrierte Schaltungen, beschäftigt.
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Integrierter Schaltkreis
Funktionseinheiten wie Rechenwerk und Cache des Prozessors zu erkennen. Aktuelle Prozessor-Chips umfassen bei ähnlichen Abmessungen mittlerweile etwa 4000 Mal so viele Transistoren. Ein integrierter Schaltkreis, auch integrierte Schaltung (kurz IC; die Buchstaben werden einzeln gesprochen: bzw. veraltet IS) ist eine auf einem dünnen, meist einige Millimeter großen Plättchen aus Halbleiter-Material aufgebrachte elektronische Schaltung.
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Low-k-Dielektrikum
Als Low-k-Dielektrikum wird in der Halbleitertechnologie ein Material bezeichnet, das eine niedrigere Dielektrizitätszahl als SiO2 aufweist, d. h.
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Die obige Liste beantwortet die folgenden Fragen
- In scheinbar High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid
- Was es gemein hat High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid
- Ähnlichkeiten zwischen High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid
Vergleich zwischen High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid
High-k-Dielektrikum verfügt über 46 Beziehungen, während Siliciumdioxid hat 111. Als sie gemeinsam 7 haben, ist der Jaccard Index 4.46% = 7 / (46 + 111).
Referenzen
Dieser Artikel zeigt die Beziehung zwischen High-k-Dielektrikum und Siliciumdioxid. Um jeden Artikel, aus dem die Daten extrahiert ist abrufbar unter:
