Schneller Zugriff als Browser!Ähnlichkeiten zwischen EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung
EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung haben 13 Dinge gemeinsam (in Unionpedia): Absorption (Physik), Elektromagnetische Welle, Elektronenvolt, Excimerlaser, Extrem ultraviolette Strahlung, Fotolack, Fotolithografie (Halbleitertechnik), Integrierter Schaltkreis, Meter, Reflexionsgrad, Vakuum, Wafer, Wellenlänge.
Absorption (Physik)
Video: Lichtabsorption im Wasser Absorption bezeichnet in der Physik allgemein die Schwächung von elektromagnetischer oder Teilchenstrahlung beim Eindringen in ein Medium.
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Elektromagnetische Welle
Eine elektromagnetische Welle, auch elektromagnetische Strahlung, ist eine Welle aus gekoppelten elektrischen und magnetischen Feldern.
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Elektronenvolt
Das Elektronenvolt, amtlich Elektronvolt, ist eine Einheit der Energie, die in der Atom-, Kern- und Teilchenphysik häufig benutzt wird.
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Excimerlaser
Excimerlaser sind Gaslaser, die elektromagnetische Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich erzeugen können.
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Extrem ultraviolette Strahlung
Warnzeichen für ionisierende Strahlung Falschfarbenbilder der Sonne im EUV: 17 nm (blau), 19 nm (grün), 29 nm (gelb) 30 nm (rot). Extrem ultraviolette Strahlung (EUV, EUV-Strahlung, engl. extreme ultra violet, XUV) bezeichnet den Spektralbereich elektromagnetischer Strahlung zwischen 10 nm und 121 nm.
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Fotolack
Fotolacke werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der Leiterplattenherstellung.
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Fotolithografie (Halbleitertechnik)
Die Fotolithografie (auch Photolithographie) ist eine der zentralen Methoden der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik zur Herstellung von integrierten Schaltungen und weiteren Produkten.
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Integrierter Schaltkreis
Funktionseinheiten wie Rechenwerk und Cache des Prozessors zu erkennen. Aktuelle Prozessor-Chips umfassen bei ähnlichen Abmessungen mittlerweile etwa 4000 Mal so viele Transistoren. Ein integrierter Schaltkreis, auch integrierte Schaltung (kurz IC; die Buchstaben werden einzeln gesprochen: bzw. veraltet IS) ist eine auf einem dünnen, meist einige Millimeter großen Plättchen aus Halbleiter-Material aufgebrachte elektronische Schaltung.
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Meter
Der Meter ist die Basiseinheit der Länge im Internationalen Einheitensystem (SI) und in anderen metrischen Einheitensystemen.
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Reflexionsgrad
reflectance) von Aluminium (blau, Al), Gold (rot, Au) und Silber (grau, Ag) in Abhängigkeit von der Wellenlänge (wavelength) der senkrecht einfallenden elektromagnetischen Strahlung. Der Reflexionsgrad (auch Reflexionsvermögen, Reflektivität oder Reflektanz) ρ (auch R) ist das Verhältnis zwischen reflektierter und einfallender Intensität als Energiegröße, z. B.
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Vakuum
Otto von Guericke demonstrierte 1657 die Wirkung von Vakuum mit seinen Magdeburger Halbkugeln Der äußere Luftdruck presst die Magdeburger Halbkugeln zusammen a) Halbkugeln mit Luft gefüllt b) luftleere Halbkugeln 1. Griff 2. luftdichte Abdichtung 3. Magdeburger Halbkugel 4. Luftdruck 5. (weitgehend) Vakuum Glasglocke mit Kolben-Vakuumpumpe für Schulversuche Vakuum ist in der technischen Praxis ein Raum mit weitgehender Abwesenheit von Materie.
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Wafer
Wafer von 2 Zoll bis 8 Zoll Als Wafer (für „dünner Keks“ oder „dünne Brotscheibe“) werden in der Mikroelektronik, Photovoltaik und Mikrosystemtechnik kreisrunde oder quadratische, etwa ein Millimeter dicke Scheiben bezeichnet.
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Wellenlänge
Phase (das sind Punkte mit gleicher Auslenkung und gleicher Steigung). Die Wellenlänge \lambda (griechisch: Lambda) einer periodischen Welle ist der kleinste Abstand zweier Punkte gleicher Phase.
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Die obige Liste beantwortet die folgenden Fragen
- In scheinbar EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung
- Was es gemein hat EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung
- Ähnlichkeiten zwischen EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung
Vergleich zwischen EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung
EUV-Lithografie verfügt über 41 Beziehungen, während Ultraviolettstrahlung hat 237. Als sie gemeinsam 13 haben, ist der Jaccard Index 4.68% = 13 / (41 + 237).
Referenzen
Dieser Artikel zeigt die Beziehung zwischen EUV-Lithografie und Ultraviolettstrahlung. Um jeden Artikel, aus dem die Daten extrahiert ist abrufbar unter:
