Ähnlichkeiten zwischen Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik)
Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik) haben 6 Dinge gemeinsam (in Unionpedia): Elektrisches Bauelement, Halbleiter, Integrierter Schaltkreis, Prozessor, Substrat (Materialwissenschaft), Transistor.
Elektrisches Bauelement
Als elektrisches Bauelement wird in der Elektrotechnik ein wesentlicher Bestandteil einer elektrischen Schaltung bezeichnet, der physisch nicht weiter unterteilt werden kann, ohne seine Funktion zu verlieren.
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Halbleiter
Halbleiter sind Festkörper, deren elektrische Leitfähigkeit zwischen der von elektrischen Leitern (>104 S/cm) und der von Nichtleitern (−8 S/cm) liegt.
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Integrierter Schaltkreis
Funktionseinheiten wie Rechenwerk und Cache des Prozessors zu erkennen. Aktuelle Prozessor-Chips umfassen bei ähnlichen Abmessungen mittlerweile etwa 4000 Mal so viele Transistoren. Ein integrierter Schaltkreis, auch integrierte Schaltung (kurz IC; die Buchstaben werden einzeln gesprochen: bzw. veraltet IS) ist eine auf einem dünnen, meist einige Millimeter großen Plättchen aus Halbleiter-Material aufgebrachte elektronische Schaltung.
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Prozessor
Die''“ eines Intel 80486DX2 Ein Computer-Prozessor ist ein (meist stark verkleinertes und meist frei) programmierbares Rechenwerk, also eine elektronische Schaltung, die gemäß übergebenen Befehlen Aktionen ausführt, wie andere elektronische Schaltungen und Mechanismen zu steuern.
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Substrat (Materialwissenschaft)
In der Materialwissenschaft ist das Substrat das zu behandelnde Material.
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Transistor
THT-Gehäuseformen Ein Transistor ist ein elektronisches Halbleiter-Bauelement zum Steuern oder Verstärken meistens niedriger elektrischer Spannungen und Ströme.
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Die obige Liste beantwortet die folgenden Fragen
- In scheinbar Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik)
- Was es gemein hat Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik)
- Ähnlichkeiten zwischen Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik)
Vergleich zwischen Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik)
Complementary metal-oxide-semiconductor verfügt über 50 Beziehungen, während Integration (Technik) hat 41. Als sie gemeinsam 6 haben, ist der Jaccard Index 6.59% = 6 / (50 + 41).
Referenzen
Dieser Artikel zeigt die Beziehung zwischen Complementary metal-oxide-semiconductor und Integration (Technik). Um jeden Artikel, aus dem die Daten extrahiert ist abrufbar unter: