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Chemische Gasphasenabscheidung und Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

Shortcuts: Differenzen, Gemeinsamkeiten, Jaccard Ähnlichkeit Koeffizient, Referenzen.

Unterschied zwischen Chemische Gasphasenabscheidung und Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

Chemische Gasphasenabscheidung vs. Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren bzw. Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD; auch engl. plasma-assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), bei der die chemische Abscheidung durch ein Plasma unterstützt wird.

Ähnlichkeiten zwischen Chemische Gasphasenabscheidung und Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

Chemische Gasphasenabscheidung und Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung haben 9 Dinge gemeinsam (in Unionpedia): Elektron, Ion, Kohlenstoffnanoröhre, Plasma (Physik), Silicium, Siliciumdioxid, Siliciumnitrid, Stickstoff, Substrat (Materialwissenschaft).

Elektron

Das Elektron (IPA:,; von „Bernstein“) ist ein negativ geladenes stabiles Elementarteilchen.

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Ion

'''Lithium-Ion Li+''': Den drei rot gefärbten Protonen im übergroß dargestellten Atomkern stehen zwei blau dargestellte Elektronen gegenüber. Ein Ion ist ein elektrisch geladenes Atom oder Molekül.

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Kohlenstoffnanoröhre

Schematische Darstellung der räumlichen Struktur einer Kohlenstoffnanoröhre Kohlenstoffnanoröhren, auch CNT genannt, sind aus Kohlenstoff bestehende Röhren (molekulare Nanoröhren) mit Durchmessern im Nanometerbereich.

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Plasma (Physik)

Plasma in einer Plasmalampe Magnetisch verformtes Plasma Plasma der Sonnenatmosphäre Blitze Polarlicht Atmosphärischer Plasmajet zum Plasmaschneiden mittels GHz-Plasma Discovery während STS-42 Plasma (von) ist in der Physik ein Teilchengemisch aus Ionen, freien Elektronen und meist auch neutralen Atomen oder Molekülen.

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Silicium

Silicium, oder auch Silizium, ist ein chemisches Element mit dem Symbol Si und der Ordnungszahl 14.

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Siliciumdioxid

Siliciumdioxid (häufig auch Siliziumdioxid) ist ein Oxid des Siliciums mit der Summenformel SiO2.

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Siliciumnitrid

Kugeln aus Siliziumnitrid Siliciumnitrid (auch: Siliziumnitrid) ist eine chemische Verbindung, die als Bestandteil eines technischen Werkstoffs genutzt wird.

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Stickstoff

Stickstoff ist ein chemisches Element mit der Ordnungszahl 7 und dem Elementsymbol N. Im Periodensystem steht es in der fünften Hauptgruppe bzw.

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Substrat (Materialwissenschaft)

In der Materialwissenschaft ist das Substrat das zu behandelnde Material.

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Die obige Liste beantwortet die folgenden Fragen

Vergleich zwischen Chemische Gasphasenabscheidung und Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

Chemische Gasphasenabscheidung verfügt über 66 Beziehungen, während Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung hat 24. Als sie gemeinsam 9 haben, ist der Jaccard Index 10.00% = 9 / (66 + 24).

Referenzen

Dieser Artikel zeigt die Beziehung zwischen Chemische Gasphasenabscheidung und Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung. Um jeden Artikel, aus dem die Daten extrahiert ist abrufbar unter:

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