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EUV-Lithografie

Index EUV-Lithografie

EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (EUV).

41 Beziehungen: Absorption (Physik), Anamorph, ASML, Bragg-Spiegel, Brechung (Physik), Carl Zeiss SMT, Chrom, Dünne Schichten, Deutscher Zukunftspreis, Elektromagnetische Welle, Elektronenvolt, Excimerlaser, Extrem ultraviolette Strahlung, Fotolack, Fotolithografie (Halbleitertechnik), Frankfurter Allgemeine Zeitung, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik, Halbleiter, Integrierter Schaltkreis, Intel, Luft, Meter, Molybdän, Mooresches Gesetz, Numerische Apertur, Physik Journal, Plasma (Physik), Rayleigh-Streuung, Reflexionsgrad, Samsung, Silicium, Tantalnitrid, Technologieknoten, Trumpf (Unternehmen), TSMC, Vakuum, Wafer, Wellenlänge, Wolter-Teleskop, Xenon, Zinn.

Absorption (Physik)

Video: Lichtabsorption im Wasser Absorption bezeichnet in der Physik allgemein die Schwächung von elektromagnetischer oder Teilchenstrahlung beim Eindringen in ein Medium.

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Anamorph

Die Aufzeichnung eines anamorphen Bildes: 1) aufzunehmendes Objekt; 2) negative Zylinderlinse; 3) positive Zylinderlinse; 4) sphärisches Objektiv; 5) Aufzeichnungsfilm Das Adjektiv anamorph (sinngemäß „umgestaltet“ von griechisch: ana „herauf“, „auf“; morphae „Form, Gestalt“) bezeichnet den gegenüber dem Original verzerrten Zustand eines Bildes.

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ASML

Die ASML Holding N.V. (Advanced Semiconductor Materials Lithography) ist ein niederländisches multinationales Unternehmen und der weltweit größte Anbieter von Lithographiesystemen für die Halbleiterindustrie.

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Bragg-Spiegel

Drei Bragg-Spiegel die im gelben, roten und blauen Bereich des optischen Lichts ihr Stoppband haben und diesen Teil reflektieren (links). Der transmittierte Teil des Lichts erscheint in der Komplementärfarbe (rechts). Ein Bragg-Spiegel (abgekürzt DBR von distributed Bragg reflector) bezeichnet einen effizienten Reflektor, der in Lichtleitern oder in optischen Resonatoren eingesetzt wird.

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Brechung (Physik)

Brechung an einem Wasserglas. Durch seine Form wirkt das Glas wie eine Zylinderlinse und erzeugt ein seitenverkehrtes Bild. Die Brechung, auch Refraktion, ist die Änderung der Ausbreitungsrichtung einer Welle durch eine räumliche Änderung des Brechungsindex des Mediums, das die Welle durchläuft.

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Carl Zeiss SMT

Die Carl Zeiss SMT GmbH (Semiconductor Manufacturing Technology) bildet den Unternehmensbereich Halbleitertechnik der Carl Zeiss AG und entwickelt und produziert Ausrüstungen für die Fertigung von Mikrochips.

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Chrom

Chrom ist ein chemisches Element mit dem Elementsymbol Cr und der Ordnungszahl 24.

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Dünne Schichten

Unter dünnen Schichten, Dünnschicht oder Film (auch thin layer) versteht man Schichten fester Stoffe mit Dicken im Mikro- beziehungsweise Nanometerbereich.

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Deutscher Zukunftspreis

Der Deutsche Zukunftspreis ehrt herausragende technische, ingenieur- und naturwissenschaftliche Leistungen, die zu anwendungsreifen Produkten führen.

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Elektromagnetische Welle

Eine elektromagnetische Welle, auch elektromagnetische Strahlung, ist eine Welle aus gekoppelten elektrischen und magnetischen Feldern.

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Elektronenvolt

Das Elektronenvolt, amtlich Elektronvolt, ist eine Einheit der Energie, die in der Atom-, Kern- und Teilchenphysik häufig benutzt wird.

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Excimerlaser

Excimerlaser sind Gaslaser, die elektromagnetische Strahlung im ultravioletten Wellenlängenbereich erzeugen können.

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Extrem ultraviolette Strahlung

Warnzeichen für ionisierende Strahlung Falschfarbenbilder der Sonne im EUV: 17 nm (blau), 19 nm (grün), 29 nm (gelb) 30 nm (rot). Extrem ultraviolette Strahlung (EUV, EUV-Strahlung, engl. extreme ultra violet, XUV) bezeichnet den Spektralbereich elektromagnetischer Strahlung zwischen 10 nm und 121 nm.

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Fotolack

Fotolacke werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der Leiterplattenherstellung.

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Fotolithografie (Halbleitertechnik)

Die Fotolithografie (auch Photolithographie) ist eine der zentralen Methoden der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik zur Herstellung von integrierten Schaltungen und weiteren Produkten.

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Frankfurter Allgemeine Zeitung

Gallusviertel Verlagsgebäude, Hellerhofstr. 2–4, Frankfurt am Main Die Frankfurter Allgemeine Zeitung (Eigenschreibweise Frankfurter Allgemeine. Zeitung für Deutschland; kurz F.A.Z. oder FAZ) ist eine deutsche überregionale Abonnement-Tageszeitung.

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Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik

Das Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik (Fraunhofer IOF) ist eine Einrichtung der Fraunhofer-Gesellschaft.

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Halbleiter

Halbleiter sind Festkörper, deren elektrische Leitfähigkeit zwischen der von elektrischen Leitern (>104 S/cm) und der von Nichtleitern (−8 S/cm) liegt.

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Integrierter Schaltkreis

Funktionseinheiten wie Rechenwerk und Cache des Prozessors zu erkennen. Aktuelle Prozessor-Chips umfassen bei ähnlichen Abmessungen mittlerweile etwa 4000 Mal so viele Transistoren. Ein integrierter Schaltkreis, auch integrierte Schaltung (kurz IC; die Buchstaben werden einzeln gesprochen: bzw. veraltet IS) ist eine auf einem dünnen, meist einige Millimeter großen Plättchen aus Halbleiter-Material aufgebrachte elektronische Schaltung.

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Intel

Hauptsitz von Intel (2023) Intel Corporation (von, deutsch integrierte Elektronik; NASDAQ-Küzel INTC) ist ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Hauptsitz im kalifornischen Santa Clara (Silicon Valley).

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Luft

Gaszusammensetzung der Luft in Vol.-% Als Luft bezeichnet man das Gasgemisch der Erdatmosphäre.

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Meter

Der Meter ist die Basiseinheit der Länge im Internationalen Einheitensystem (SI) und in anderen metrischen Einheitensystemen.

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Molybdän

Molybdän (von „Blei“) ist ein chemisches Element mit dem Elementsymbol Mo und der Ordnungszahl 42.

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Mooresches Gesetz

Mooresches Gesetz: Im betrachteten Zeitraum verdoppelt sich die Anzahl der Transistoren etwa alle zwei Jahre. Das Mooresche Gesetz (deutsch „Gesetz“ im Sinne von „Gesetzmäßigkeit“) besagt, dass sich die Zahl der Transistoren integrierter Schaltkreise mit minimalen Komponentenkosten regelmäßig verdoppelt; je nach Quelle werden 12, 18 oder 24 Monate als Zeitraum genannt.

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Numerische Apertur

Mikroskopobjektiv mit eingravierten Werten für die Vergrößerung (10x) und die numerische Apertur (0,25). Die numerische Apertur (Formelzeichen A_\text, NA oder n.A.; abgeleitet von numerisch und Apertur, etwa: Zahlenwert der Öffnungsweite) ist eine Größe der Dimension Zahl bei optischen Systemen wie Teleskopen, Lichtmikroskopen oder Lichtwellenleitern.

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Physik Journal

Das Physik Journal (bis 2001 Physikalische Blätter) ist die Mitgliederzeitschrift und das offizielle Mitteilungsorgan der Deutschen Physikalischen Gesellschaft e. V. (DPG).

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Plasma (Physik)

Plasma in einer Plasmalampe Magnetisch verformtes Plasma Plasma der Sonnenatmosphäre Blitze Polarlicht Atmosphärischer Plasmajet zum Plasmaschneiden mittels GHz-Plasma Discovery während STS-42 Plasma (von) ist in der Physik ein Teilchengemisch aus Ionen, freien Elektronen und meist auch neutralen Atomen oder Molekülen.

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Rayleigh-Streuung

Die Rayleigh-Streuung ist die Ursache der Luftperspektive Die Rayleigh-Streuung verursacht den blauen Farbton des Himmels am Tag und die Rotfärbung der Sonne, wenn sie unter- oder aufgeht. Die Rayleigh-Streuung, benannt nach John William Strutt, 3. Baron Rayleigh, bezeichnet die (hauptsächlich) elastische Streuung elektromagnetischer Wellen an Teilchen, deren Durchmesser klein im Vergleich zur Wellenlänge \lambda ist, also etwa bei der Streuung von Licht an kleinen Molekülen.

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Reflexionsgrad

reflectance) von Aluminium (blau, Al), Gold (rot, Au) und Silber (grau, Ag) in Abhängigkeit von der Wellenlänge (wavelength) der senkrecht einfallenden elektromagnetischen Strahlung. Der Reflexionsgrad (auch Reflexionsvermögen, Reflektivität oder Reflektanz) ρ (auch R) ist das Verhältnis zwischen reflektierter und einfallender Intensität als Energiegröße, z. B.

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Samsung

rechts Hauptsitz ''Samsung Town'' in Seoul Die Samsung Gruppe ist das größte Konglomerat Südkoreas.

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Silicium

Silicium, oder auch Silizium, ist ein chemisches Element mit dem Symbol Si und der Ordnungszahl 14.

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Tantalnitrid

Tantalnitride sind keramische Verbindungen aus Tantal und Stickstoff.

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Technologieknoten

Der Begriff Technologieknoten bezeichnet in der Halbleitertechnik einen Meilenstein für die Definition einer Herstellungsprozessgeneration und bezieht sich im Wesentlichen auf die kleinste fotolithografisch herstellbare Strukturgröße.

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Trumpf (Unternehmen)

Hauptverwaltung in Ditzingen (2021) Trumpf (Eigenschreibweise TRUMPF) ist ein deutsches Familienunternehmen mit Hauptsitz in Ditzingen nahe Stuttgart.

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TSMC

Die Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (TSMC;, kurz) ist vor Intel und Samsung der weltweit umsatzstärkste Halbleiterhersteller und der weltweit größte unabhängige Auftragsfertiger für Halbleiterprodukte (Foundry).

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Vakuum

Otto von Guericke demonstrierte 1657 die Wirkung von Vakuum mit seinen Magdeburger Halbkugeln Der äußere Luftdruck presst die Magdeburger Halbkugeln zusammen a) Halbkugeln mit Luft gefüllt b) luftleere Halbkugeln 1. Griff 2. luftdichte Abdichtung 3. Magdeburger Halbkugel 4. Luftdruck 5. (weitgehend) Vakuum Glasglocke mit Kolben-Vakuumpumpe für Schulversuche Vakuum ist in der technischen Praxis ein Raum mit weitgehender Abwesenheit von Materie.

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Wafer

Wafer von 2 Zoll bis 8 Zoll Als Wafer (für „dünner Keks“ oder „dünne Brotscheibe“) werden in der Mikroelektronik, Photovoltaik und Mikrosystemtechnik kreisrunde oder quadratische, etwa ein Millimeter dicke Scheiben bezeichnet.

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Wellenlänge

Phase (das sind Punkte mit gleicher Auslenkung und gleicher Steigung). Die Wellenlänge \lambda (griechisch: Lambda) einer periodischen Welle ist der kleinste Abstand zweier Punkte gleicher Phase.

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Wolter-Teleskop

Chandra-Weltraumteleskops (Illustration: NASA) Als Wolter-Teleskop wird ein Röntgenteleskop bezeichnet, das eine Spiegelanordnung verwendet, wie sie der deutsche Physiker Hans Wolter 1952 vorschlug.

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Xenon

Xenon ist ein chemisches Element mit dem Elementsymbol Xe und der Ordnungszahl 54.

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Zinn

Zinn ist ein chemisches Element mit dem Elementsymbol Sn und der Ordnungszahl 50.

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Leitet hier um:

EUV-Lithographie, EUVL, Extreme Ultraviolet Lithography.

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